当前时间：
双层石墨烯在垂直电场下带隙可调，对于实现高性能石墨烯基半导体器件具有重要意义。A3尺寸双层石墨烯生长工艺项目组的目标就是发展稳定、批量的制备工艺，实现均匀的双层石墨烯的生长技术。
铜镍合金衬底不仅打破了铜箔的上生长石墨烯的“自限制效应”，而且具有优越的催化活性，显著提高了生长速度。因此，双层石墨烯生长工艺项目组致力于在铜镍合金衬底上生长双层石墨烯。目前，项目组通过电镀的方式能够获得不同镍含量的铜镍合金衬底，并通过参数调节获得双层石墨烯。后续，项目组将继续优化双层石墨烯的覆盖度和均匀性等指标，进一步推动A3尺寸双层石墨烯制备技术的发展。
官方微信